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共 10 款产品,系列:光谱砂带磨样机/磨平机/电解抛光腐蚀仪
ICT-4ICT-4 晶间腐蚀仪
中机PREMIUM研润MICROCRE金相制样设备

ICT-4 晶间腐蚀仪

晶间腐蚀是金属局部腐蚀的一种,通常出现于不锈钢、铝合金、黄铜和镍基合金等材料中。晶间腐蚀是沿着金属晶粒间的分界面向内部扩展的腐蚀。晶间腐蚀的原因是晶粒表面和内部间化学成分的差异以及晶界杂质或内应力的存在。 晶间腐蚀会破坏晶粒间的结合,大幅降

型号 ICT-4 查看详情
EP-06EP-06 电解抛光腐蚀仪
中机PREMIUM研润MICROCRE金相制样设备

EP-06 电解抛光腐蚀仪

EP - 06型电解抛光腐蚀仪:用于金相试样的电解抛光和腐蚀,由电源、腐蚀器两部分组成。电源:100V/6A,数值显示,可预设电流/电压,计算机控制、稳定电流/电压。腐蚀器包含:液体搅拌器、冷却盘管。 EP - 06型 电解抛光腐蚀仪,利用

型号 EP-06 查看详情
EP-06XEP-06X 电解抛光腐蚀仪
中机PREMIUM研润MICROCRE金相制样设备

EP-06X 电解抛光腐蚀仪

EP-06X型电解抛光腐蚀仪:用于金相试样的电解抛光和腐蚀,由电源、腐蚀器两部分组成。电源:100V/6A,数值显示,可预设电流/电压,计算机控制、稳定电流/电压。腐蚀器包含:液体搅拌器、冷却盘管。 EP–06X型电解抛光腐蚀仪,利用电化学

型号 EP-06X 查看详情
EP-3000EP-3000 电解抛光腐蚀仪
中机PREMIUM研润MICROCRE金相制样设备

EP-3000 电解抛光腐蚀仪

EP-3000型电解抛光腐蚀仪:用于金相试样的电解抛光和腐蚀,由电源、腐蚀器两部分组成。电源:60V/20A,数值显示,可预设电流/电压,计算机控制、稳定电流/电压。EP-3000型电解抛光腐蚀仪是一台集电解抛光、腐蚀功能为一体的金相制样仪

型号 EP-3000 查看详情
LMHLMH 低倍组织热酸蚀装置
中机PREMIUM研润MICROCRE金相制样设备

LMH 低倍组织热酸蚀装置

LMH低倍组织热酸蚀装置:通过加热酸液,腐蚀样品,该方法适合所有钢,包括轴承钢,为最后的仲裁方法。该设备适用于样品数量较少的实验室使用。 LMH型低倍组织热酸蚀装置主要特点: 1、该装置根据《GB226-91钢的低倍组织及缺陷酸蚀检验法》进

型号 LMH 查看详情
LME-IILME-II 低倍组织电解酸蚀装置
中机PREMIUM研润MICROCRE金相制样设备

LME-II 低倍组织电解酸蚀装置

LME低倍组织电解酸蚀装置:不必预热,打开电源,即可腐蚀,可节省时间;并可同时并列放置多排样品,因而效率高;该装置适用于每天有大量样品的用户。 LME-II低倍组织电解酸蚀装置根据《GB226-91钢的低倍组织及缺陷酸蚀检验法》、采用电解酸

型号 LME-II 查看详情
LME-IIILME-III 低倍组织电解酸蚀装置
中机PREMIUM研润MICROCRE金相制样设备

LME-III 低倍组织电解酸蚀装置

LME低倍组织电解酸蚀装置:不必预热,打开电源,即可腐蚀,可节省时间;并可同时并列放置多排样品,因而效率高;该装置适用于每天有大量样品的用户。 LME-III低倍组织电解酸蚀装置根据《GB226-91钢的低倍组织及缺陷酸蚀检验法》、采用电解

型号 LME-III 查看详情
VTCVTC 低倍样品腐蚀酸雾排风柜
中机PREMIUM研润MICROCRE金相制样设备

VTC 低倍样品腐蚀酸雾排风柜

VTC低倍样品腐蚀酸雾排风柜是专用于实验室,尤其是实验室进行低倍样品腐蚀时,对腐蚀产生的酸雾进行抽排,保证室内满足空气标准的系统。该系统耐腐蚀,美观,可定制以便和实验室其他设备和家具摆放整齐。将低倍酸蚀装置和排风柜组成一体。 主要技术参数:

型号 VTC 查看详情
ATCATC 低倍样品腐蚀酸雾处理系统
中机PREMIUM研润MICROCRE金相制样设备

ATC 低倍样品腐蚀酸雾处理系统

ATC 酸雾处理柜是专用于实验室,尤其是实验室进行低倍样品腐蚀时,对腐蚀产生的酸雾进行抽排、中和处理,产生满足空气排放标准的系统。该系统耐腐蚀,美观,可定制以便和实验室其他设备和家具摆放整齐。该系统由排风柜和酸雾中和装置两部分组成,可和低倍

型号 ATC 查看详情
ATC-LATC-L 超宽低倍样品腐蚀酸雾处理系统
中机PREMIUM研润MICROCRE金相制样设备

ATC-L 超宽低倍样品腐蚀酸雾处理系统

ATC-L超宽酸雾处理柜是专用于实验室,尤其是实验室进行低倍样品腐蚀时,对腐蚀产生的酸雾进行抽排、中和处理,产生满足空气排放标准的系统。该系统耐腐蚀,美观,可定制以便和实验室其他设备和家具摆放整齐。该系统由排风柜和酸雾中和装置两部分组成,可

型号 ATC-L 查看详情